LCD制作從初期入料凈化到成膜前凈化以及光阻前凈化到和配向凈化到完工凈化，需要不少于二十次的凈化工程，更需要使用到各種凈化設(shè)備，目的是要將玻璃基板上的雜質(zhì)以清洗劑凈化，由于這些凈化工程對于后續(xù)制程良率影響極大，因此LCD凈化設(shè)備在制程所扮演的角色也就顯得格外重要，未來發(fā)展情況愈來愈受重視。凈化設(shè)備分為兩種；一種是以卡匣為單位，將數(shù)個基板一起浸泡在凈化槽中進(jìn)行凈化處理的群組式設(shè)備，以及將基板分片搬送，再用清洗液沖洗基板正反面來進(jìn)行凈化工程的單片式設(shè)備。
在LCD玻璃基板的制程中有很多采用群組式凈化設(shè)備，主要是因為以卡匣為單位處理基板，生產(chǎn)量高，但因基板尺寸變大，設(shè)備的高度也會變高，加上清洗液循環(huán)使用以及卡匣和基板一起凈化的影響，會產(chǎn)生無法完全凈化等問題，因此群組式凈化設(shè)備在TFT制程上的應(yīng)用有所限制.單片式凈化設(shè)備雖然也會隨著基板面積擴(kuò)大而變大，但設(shè)備高度影響卻比較少。而且單片式凈化設(shè)備可以做到群組式凈化設(shè)備較難做到的單片基板凈化，以及可依清洗液不同進(jìn)行深度凈化，所以成為LCD凈化設(shè)備的主流。
針對LCD玻璃基板大型化與低價化等要求，進(jìn)一步的降低價格、節(jié)省空間、提升產(chǎn)量及提升維修性等為凈化設(shè)備的新課題。而且依凈化制程不同，最適當(dāng)?shù)膯纹絻艋O(shè)備的種類也有所不同，因此，未來需要開發(fā)各種凈化設(shè)備。目前已開發(fā)完成可凈化1公尺平方基板的水平單片式凈化設(shè)備，但客戶仍要求減少藥液使用量和提高凈化工具的處理效率等問題，因此未來工具開發(fā)與凈化設(shè)備效率的提升，都是相關(guān)設(shè)備研發(fā)改善的重要課題。
另外，可凈化到3.5代基板尺寸的旋轉(zhuǎn)單片式設(shè)備已開發(fā)完成，但是未來將面對的是1公尺平方玻璃基板的低溫多晶硅TFT制程，業(yè)者則期待能有可用在大型基板與LTPS制程的高度凈化設(shè)備。因此，除了刷毛類的物理凈化工具與背面處理工具外，新的旋轉(zhuǎn)式凈化設(shè)備與工具的開發(fā)動作也相當(dāng)受關(guān)注。